5 nm精度极紫外干涉技术,助力突破光刻衍射极限
瑞士Paul Scherrer研究所(PSI)的研究人员开发了一种新的EUV-IL装置,该装置采用基于反射镜的技术,突破了传统基于光栅方法固有的衍射效率对衍射极...
瑞士Paul Scherrer研究所(PSI)的研究人员开发了一种新的EUV-IL装置,该装置采用基于反射镜的技术,突破了传统基于光栅方法固有的衍射效率对衍射极...
本文转自【中国新闻网】; 中新网6月12日电 综合外媒报道,当地时间11日晚,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)在社交平台发文,悼念其创始人之一维姆・特鲁斯特(W...